[实用新型]1810纳米带通红外滤光片有效

专利信息
申请号: 201220090925.6 申请日: 2012-03-12
公开(公告)号: CN202472018U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 吕晶 申请(专利权)人: 杭州麦乐克电子科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;B32B9/04;B32B15/00
代理公司: 杭州金源通汇专利事务所(普通合伙) 33236 代理人: 唐迅
地址: 310000 浙江省杭州市西*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种1810纳米带通红外滤光片,包括以Bk7玻璃为原材料的基板、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层和以SiO和Si为镀膜材料的第二镀膜层,所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,其特征是其特征是所述第一镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Si层和SiO层,所述Si层和SiO层交互排列;所述第二镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的SiO层和Si层,所述SiO层和Si层交互排列。本实用新型公开了一种1810纳米带通红外滤光片,能实现中心波长定位在1810±1%纳米,峰值透过率达90%以上,截止区透过率小于0.1%,极大地提高了信噪比,提高应用领域产品的探测精度和效能。
搜索关键词: 1810 纳米 通红 滤光
【主权项】:
一种1810纳米带通红外滤光片,包括以Bk7玻璃为原材料的基板(1)、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层(2)和以SiO和Si为镀膜材料的第二镀膜层(3),所述基板(1)位于第一镀膜层(2)和第二镀膜层(3)之间,其特征是第一镀膜层(2)包含从内向外依次排列的厚度为50nm的Si层、厚度为130nm的SiO层、厚度为80nm的Si层、厚度为149nm的SiO层、厚度为71nm的Si层、厚度为131nm的SiO层、厚度为60nm的Si层、厚度为133nm的SiO层、厚度为79nm的Si层、厚度为147nm的SiO层、厚度为64nm的Si层、厚度为147nm的SiO层、厚度为134nm的Si层、厚度为157nm的SiO层、厚度为60nm的Si层、厚度为292nm的SiO层、厚度为54nm的Si层、厚度为161nm的SiO层、厚度为100nm的Si层、厚度为250nm的SiO层、厚度为78nm的Si层、厚度为68nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为217nm的SiO层、厚度为236nm的Si层、厚度为296nm的SiO层、厚度为166nm的Si层、厚度为328nm的SiO层、厚度为179nm的Si层、厚度为322nm的SiO层以及厚度为162nm的Si层;第二镀膜层(3)包含从内向外依次排列的厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为1478nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为1478nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为246nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为1478nm的SiO层、厚度为125nm的Si层、厚度为243nm的SiO层、厚度为90nm的Si层以及厚度为190nm的SiO层。
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