[实用新型]一种溅射设备有效
申请号: | 201220091459.3 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN202543307U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 陈岩;杜晓健;陈晓斌 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;程立民 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种溅射设备,包括真空腔体,所述真空腔体内有清洁装置,所述清洁装置包括:空间移动导轨、滑轮组、滑轮驱动马达、静电发生器、静电吸尘器、打磨装置、打磨装置驱动马达;其中,空间移动导轨设置在溅射设备真空腔体内;滑轮组一端连接空间移动导轨,另一端连接滑轮驱动马达;滑轮驱动马达一端连接滑轮组,另一端连接静电发生器;静电发生器一端连接滑轮驱动马达,另一端连接静电吸尘器;打磨装置驱动马达一端位于静电发生器与静电吸尘器的连接处,另一端连接打磨装置;通过本实用新型的方案,能够在不打开真空腔体的情况下,通过控制滑轮驱动马达不断调整打磨装置接触ITO靶材的位置,实现清洁ITO靶材,提高设备稼动率。 | ||
搜索关键词: | 一种 溅射 设备 | ||
【主权项】:
一种溅射设备,包括真空腔体,其特征在于,所述真空腔体内有清洁装置,所述清洁装置包括:空间移动导轨、滑轮组、滑轮驱动马达、静电发生器、静电吸尘器、打磨装置驱动马达、打磨装置;其中,空间移动导轨设置在溅射设备真空腔体内;滑轮组一端连接空间移动导轨,另一端连接滑轮驱动马达;滑轮驱动马达一端连接滑轮组,另一端连接静电发生器;静电发生器一端连接滑轮驱动马达,另一端连接静电吸尘器,静电吸尘器用于吸附粉尘;打磨装置驱动马达一端位于静电发生器与静电吸尘器的连接处,另一端与打磨装置连接,打磨装置用于打磨氧化铟锡靶材。
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