[实用新型]一种晶硅抛光片表面缺陷检测设备有效

专利信息
申请号: 201220123927.0 申请日: 2012-03-28
公开(公告)号: CN202678288U 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 潘国兵;张洪涛;蒋建东 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 晶硅抛光片表面缺陷检测设备,包括激光系统、光学扫描系统、图形检测系统、晶硅抛光片运动系统以及显示控制系统,所述激光系统与所述光学扫描系统相连接,所述光学扫描系统固定于待检测晶硅抛光片的上方一侧,所述图形检测系统以π/2弧度固定于待检测晶硅抛光片上方相对于所述的光学扫描系统的另一侧,并与所述显示控制系统相连接;所述晶硅抛光片运动系统与所述显示控制系统相连接。本实用新型利用激光相干性、方向集中和高分辨率的特性,结合光机电一体化以及图像算法的方法进行晶硅抛光片表面质量的检测,可实现晶硅抛光片表面细小裂纹、细小颗粒、沾污、凸凹等缺陷的检测,为集成电路与太阳能光伏电池的生产提供可靠的质量检测保证。
搜索关键词: 一种 抛光 表面 缺陷 检测 设备
【主权项】:
一种晶硅抛光片表面缺陷检测设备,其特征在于:包括激光系统、光学扫描系统、图形检测系统、晶硅抛光片运动系统以及显示控制系统,所述的激光系统与光学扫描系统光连接,所述的光学扫描系统固定于待检测晶硅抛光片的上方的一侧,所述的图形检测系统以π/2弧度固定于待检测晶硅抛光片的上方的相对于所述的光学扫描系统的另一侧,并与所述的显示控制系统相连接;所述的晶硅抛光片运动系统与显示控制系统相连接。
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