[实用新型]干涉仪模块和光刻系统有效
| 申请号： | 201220131434.1 | 申请日： | 2012-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN202793314U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | G·德博尔;T·A·乌姆斯;N·弗奇尔;G·C·A·库维利尔斯 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 陈芳 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种干涉仪模块。该干涉仪模块包括将所述测量光束和所述参考光束的反射光组合成组合光束的光束组合器；将所述组合光束分成第一分光束和第二分光束的非偏振分束器；将所述第一分束器分成具有第一偏振的第一偏振光束和具有第二偏振的第二偏振光束的第一偏振分束器；将所述第二分光束分成具有第三偏振的第三偏振光束和具有第四偏振的第四偏振光束的第二偏振分束器；分别检测所述第一偏振光束、所述第二偏振光束、所述第三偏振光束和所述第四偏振光束的光束能量的第一、第二、第三和第四检测器。本实用新型所解决的技术问题之一是如何测量参考反射镜和测量反射镜之间的位移的方向。使用本实用新型的一个实施例的干涉仪模块，可以确定测量反射镜相对于参考反射镜的位移。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉仪 模块 光刻 系统 | ||
【主权项】：
一种适用于向着相应的测量反射镜和参考反射镜发射测量光束和相关联的参考光束的干涉仪模块，所述干涉仪模块包括：将所述测量光束和所述参考光束的反射光组合成组合光束的光束组合器；将所述组合光束分成第一分光束和第二分光束的非偏振分束器，每一种分光束包含所述参考光束和所述测量光束的分量；将所述第一分光束分成具有第一偏振的第一偏振光束和具有第二偏振的第二偏振光束的第一偏振分束器；将所述第二分光束分成具有第三偏振的第三偏振光束和具有第四偏振的第四偏振光束的第二偏振分束器；分别检测所述第一偏振光束、所述第二偏振光束、所述第三偏振光束和所述第四偏振光束的光束能量的第一、第二、第三和第四检测器，其中，所述第一偏振光束、所述第二偏振光束、所述第三偏振光束和所述第四偏振光束的所述偏振是不同的偏振。
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