[实用新型]单晶硅太阳能电池组件有效
申请号: | 201220136944.8 | 申请日: | 2012-04-01 |
公开(公告)号: | CN202503010U | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 夏天;柏祎山 | 申请(专利权)人: | 武汉兴隆源太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/048 | 分类号: | H01L31/048;H01L31/0216 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 邓寅杰 |
地址: | 430040 湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型涉及太阳能电池技术领域,尤其是单晶硅太阳能电池组件,其包括太阳能单晶电池片,其不同之处在于,所述太阳能单晶电池片的上表面镀有折射率为2.6~3.0的第一层氮化硅减反射膜,第一层氮化硅减反射膜表面镀有折射率为1.9~2.4的第二层氮化硅减反射膜,所述第一层氮化硅减反射膜的厚度为30~44纳米,所述第二层氮化硅减反射膜的厚度为35~70纳米,第二层氮化硅减反射膜向上依次设置有EVA胶膜、钢化玻璃,太阳能单晶电池片的底部依次设置有EVA胶膜、背板。本实用新型采用了双层氮化硅减反射膜设计,提高了太阳能电池表面钝化效果,降低太阳能电池表面反射率,而且封装后不会因折射率不匹配而造成的光学损失。 | ||
搜索关键词: | 单晶硅 太阳能电池 组件 | ||
【主权项】:
单晶硅太阳能电池组件,其包括太阳能单晶电池片,其特征在于,所述太阳能单晶电池片的上表面镀有折射率为2.6~3.0的第一层氮化硅减反射膜,第一层氮化硅减反射膜表面镀有折射率为1.9~2.4的第二层氮化硅减反射膜,所述第一层氮化硅减反射膜的厚度为30~44纳米,所述第二层氮化硅减反射膜的厚度为35~70纳米,第二层氮化硅减反射膜向上依次设置有EVA胶膜、钢化玻璃,太阳能单晶电池片的底部依次设置有EVA胶膜、背板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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