[实用新型]卷绕镀膜磁控溅射阴极结构有效
| 申请号： | 201220164301.4 | 申请日： | 2012-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN202519326U | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 金烈 | 申请（专利权）人： | 深圳市金凯新瑞光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 殷齐齐 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及真空镀膜装备，尤其涉及一种卷绕镀膜磁控溅射阴极结构，包括阴极对靶，其特征在于：构成阴极对靶的两个阴极单靶之靶面具有夹角。本实用新型提供一种气氛隔离效果好、沉积速率高的卷绕镀膜磁控溅射阴极结构。 | ||
| 搜索关键词： | 卷绕 镀膜 磁控溅射 阴极 结构 | ||
【主权项】：
一种卷绕镀膜磁控溅射阴极结构，包括阴极对靶，其特征在于：构成阴极对靶的两个阴极单靶之靶面具有夹角。
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