[实用新型]一种无掩膜曝光系统有效
| 申请号： | 201220176099.7 | 申请日： | 2012-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN202512361U | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 丁海生;李东昇;马新刚;江忠永;张昊翔 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03H1/12 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种无掩膜曝光系统，包括：激光光源、半波片、分束镜、第一光强衰减器、第一电动快门、第一反射镜、扩束镜、准直镜、傅立叶变换透镜、光折变晶体、第二反射镜、第二光强衰减器、第二电动快门和成像透镜。采用本实用新型的无掩膜曝光系统，可以大大减少掩膜版的数量，降低了因为使用多套掩膜版的带来的掩膜版的费用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩膜 曝光 系统 | ||
【主权项】：
一种无掩膜曝光系统，包括掩膜版支撑架、晶片支撑架，其特征在于，还包括：激光光源、半波片、分束镜、第一光强衰减器、第一电动快门、第一反射镜、扩束镜、准直镜、傅立叶变换透镜、光折变晶体、第二反射镜、第二光强衰减器、第二电动快门和成像透镜；所述激光光源发出的激光经过所述半波片后到达所述分束镜，经过所述分束镜后分为透射光束和反射光束；所述透射光束经过所述第一光强衰减器和所述第一电动快门后到达所述第一反射镜，再经过所述扩束镜和所述准直镜，再经过所述掩膜版支撑架和所述傅立叶变换透镜到达所述光折变晶体；所述反射光束经过所述第二反射镜后，再经过所述第二光强衰减器和所述第二电动快门后到达所述光折变晶体，在所述光折边晶体之后还放置有所述成像透镜和用于放置晶片的所述晶片支撑架，所述成像透镜的前焦点和所述傅立叶变换透镜的后焦点重合。
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