[实用新型]一种磁控溅射旋转靶有效

专利信息
申请号: 201220208554.7 申请日: 2012-05-10
公开(公告)号: CN202595261U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 宋光耀;李毅;刘志斌;翟宇宁 申请(专利权)人: 深圳市创益科技发展有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 代理人: 张艺影;李奕晖
地址: 518029 广东省深圳市福田区深南大道*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种磁控溅射旋转靶,属于磁控溅射镀膜技术领域,解决磁控溅射镀制薄膜电池膜层的厚度一致性等技术问题,磁控溅射旋转靶包括靶筒、靶轴、靶材和磁体,靶材装在靶筒的外壁上,磁体位于靶筒内部,其特征在于所述靶筒的两端设有连接构件,该连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成,端头由连接夹套安装在靶筒的两端,靶轴支承座安装在端头内,靶轴的一端装有磁体移动机构,另一端装有靶材旋转机构。积极效果是通过调节靶电源以及旋转靶上的磁铁和靶材之间距离,调整靶材表面的磁场,保证所镀膜层厚度的均匀性和致密度的一致性。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 旋转
【主权项】:
一种磁控溅射旋转靶,包括靶筒、靶轴、靶材和磁体,靶材装在靶筒的外壁上,磁体位于靶筒内部,其特征在于所述靶筒的两端设有连接构件,该连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成,端头由连接夹套安装在靶筒的两端,靶轴支承座安装在端头内,靶轴的一端装有磁体移动机构,另一端装有靶材旋转机构。
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