[实用新型]一种均匀漫反射槽装置有效

专利信息
申请号: 201220209335.0 申请日: 2012-05-10
公开(公告)号: CN202599811U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 王培军 申请(专利权)人: 北京普析通用仪器有限责任公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 龚燮英
地址: 101200*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供了一种均匀漫反射槽装置,方案一包括:硬铝材料制成的样品池臂,所述的样品池臂上设有样品池,所述样品池为柱面槽形,所述样品池的表面抛光并镀铝质反射膜,或者样品池的表面喷涂硫酸钡、氟化镁或聚四氟乙烯的漫反射介质层。方案二包括:硬铝材料制成的样品池臂,还包括聚四氟乙烯或陶瓷积分球制成的比色杯池,所述比色杯池是柱面槽形,所述样品池臂上设有插槽,所述比色杯池设置在所述样品池臂上的插槽内。本实用新型由于槽表面的均匀漫反射特性,可以在光线较弱的环境中使用,来收集微弱光信号,如微生物ATP荧光检测中,在此槽形装置中放入加有某种荧光试剂的比色杯,搜集荧光输出到光电探测器,可以显著增强探测到的能量。
搜索关键词: 一种 均匀 漫反射 装置
【主权项】:
一种均匀漫反射槽装置,包括:硬铝材料制成的样品池臂,所述的样品池臂上设有样品池,其特征在于,所述样品池为柱面槽形,所述样品池的表面抛光并镀铝质反射膜,或者样品池的表面喷涂硫酸钡、氟化镁或聚四氟乙烯的漫反射介质层。
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