[实用新型]大功率器件的加工系统有效
申请号: | 201220210780.9 | 申请日: | 2012-05-11 |
公开(公告)号: | CN202695396U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 李建球;杨晓智 | 申请(专利权)人: | 深圳市鹏微科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 黄韧敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型适用于大功率器件领域,提供了一种大功率器件的加工系统,包括:中央控制器,连接于所述中央控制器,将所述大功率器件的加工材料备料为细磨晶片材料的备料单元。借此,本实用新型使大功率器件生产周期缩短、加工成本降低。 | ||
搜索关键词: | 大功率 器件 加工 系统 | ||
【主权项】:
一种大功率器件的加工系统,其特征在于,包括:中央控制器;连接于所述中央控制器,将所述大功率器件的加工材料备料为细磨晶片的备料单元。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造