[实用新型]用于热丝化学气相沉积系统的终端连接器有效
申请号: | 201220223725.3 | 申请日: | 2012-05-11 |
公开(公告)号: | CN202881386U | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 普拉文·纳尔万卡尔;维克多·普什帕;迪特尔·哈斯 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;钟强 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本文提供用于在热丝化学气相沉积(HWCVD)系统中的终端连接器。在一些实施例中,一种用于热丝化学气相沉积(HWCVD)系统的终端连接器可包括:基底;丝夹,所述丝夹沿轴相对于所述基底可移动地安置;反射罩,所述反射罩沿所述轴从所述丝夹沿第一方向延伸;以及张紧装置,所述张紧装置耦接至所述基底和丝夹,以沿与所述第一方向相反的第二方向偏移所述丝夹。 | ||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 系统 终端 连接器 | ||
【主权项】:
一种用于热丝化学气相沉积系统的终端连接器,所述终端连接器包括: 基底; 丝夹,所述丝夹沿轴相对于所述基底可移动地安置; 反射罩,所述反射罩沿所述轴从所述丝夹沿第一方向延伸;以及 张紧装置,所述张紧装置耦接至所述基底和丝夹,以沿与所述第一方向相反的第二方向偏移所述丝夹。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的