[实用新型]磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶

摘要

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶，包括有靶头和靶材，靶头设有可转动的靶芯，靶芯一端伸出靶头而穿入靶材内中部，并于靶芯之穿入靶材的部分外周分布有磁块；所述靶材的一端通过法兰与靶头轴向衔接在一起，恰使靶材内腔与靶头内腔形成连通的密封腔，靶芯位于密封腔中；所述靶芯的内部还设有冷却通道，冷却通道的入口连通到靶头外接冷却液；而冷却通道的出口位于靶芯之穿入靶材的一端端头，冷却通道的出口连通密封腔，密封腔设有出口。本实用新型设计靶芯旋转，且设有冷却降温结构，从而使溅射更均匀，及时给靶降温，提升镀膜效果，结构简单，科学合理，投资成本低。

主权项

磁控溅射镀膜机的磁控溅射靶，包括有靶头（1）和靶材（2），其特征在于：靶头（1）设有可转动的靶芯（3），靶芯（3）一端伸出靶头（1）而穿入靶材（2）内中部，并于靶芯（3）之穿入靶材（2）的部分外周分布有磁块（4）；所述靶材（2）的一端通过法兰（5）与靶头（1）轴向衔接在一起，恰使靶材（2）内腔与靶头（1）内腔形成连通的密封腔（6），靶芯（3）位于密封腔（6）中；所述靶芯（3）的内部还设有冷却通道（31），冷却通道（31）的入口（311）连通到靶头（1）外接冷却液；而冷却通道（31）的出口（312）位于靶芯（3）之穿入靶材（2）的一端端头，冷却通道（31）的出口（312）连通密封腔（6），密封腔（6）设有出口（61）。