[实用新型]一种板式PECVD镀膜载板有效
| 申请号： | 201220238931.1 | 申请日： | 2012-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN202717845U | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 姚骞;杨怀进;林大成;黄勇;王虎 | 申请（专利权）人： | 奥特斯维能源（太仓）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 夏雪 |
| 地址： | 215434 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种板式PECVD镀膜载板，包括载板本体和凹槽，所述凹槽的内壁呈下坡斜面，下坡斜面的高度为8mm~15mm，斜面与水平面的倾角为45°-65°。与现有技术相比，本实用新型可以避免氮化硅的堆积对等离子场淀积到硅片表面的影响，改善硅片在镀膜过程中的边沿色差问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 板式 pecvd 镀膜 | ||
【主权项】：
一种板式PECVD镀膜载板，包括载板本体和凹槽，其特征在于：凹槽的内壁呈下坡斜面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥特斯维能源（太仓）有限公司，未经奥特斯维能源（太仓）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220238931.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：新型营业终端智能运维系统
- 下一篇：智能通信适配器
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
