[实用新型]装饰镀膜领域用的磁控溅射与离子镀联用镀膜系统有效

专利信息
申请号: 201220244730.2 申请日: 2012-05-28
公开(公告)号: CN202595248U 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 朱元义 申请(专利权)人: 广州市番禺双石钛金厂
主分类号: C23C14/22 分类号: C23C14/22
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 华辉;周端仪
地址: 511440 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种装饰镀膜领域用的磁控溅射与离子镀联用镀膜系统,其按生产制程方向,包括依次设置的过渡室、离子镀膜室和磁控溅射室。本实用新型的镀膜系统为整套装备的关键部分,离子镀膜具有良好的离子清洗功能和快速成膜能力,且膜层和基底附着力强,而磁控溅射技术则具有成膜速度容易控制,膜层颜色容易调节等优点,将两者的优势互补是本实用新型的核心指导思想,同时本实用新型具备连续镀膜功能,大大提高了生产效率。
搜索关键词: 装饰 镀膜 领域 磁控溅射 离子镀 联用 系统
【主权项】:
一种装饰镀膜领域用的磁控溅射与离子镀联用镀膜系统,其特征在于:按生产制程方向,包括依次设置的过渡室、离子镀膜室和磁控溅射室。
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