[实用新型]吸附式光学对点靶座有效
| 申请号： | 201220261568.5 | 申请日： | 2012-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN202582491U | 公开（公告）日： | 2012-12-05 |
| 发明（设计）人： | 谭启厚 | 申请（专利权）人： | 中国五冶集团有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 廖曾 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种吸附式光学对点靶座，包括靶座，所述靶座上设置有贯穿靶座的通孔，所述靶座采用磁性材料制成，通孔内设置有放大装置和定位装置，定位装置设置在放大装置的下方，且定位装置的中心线和通孔的中心线在同一条直线上。该靶座对点时移动靶座将十字刻线对准吸附在设备上特征点即可，每次的对点误差不大于0.1毫米，极大地提高了对点精度，采用磁性材料进行吸附安装，提高了工作效率，同时靶座可以取下测量其它点，减少了靶座的加工数量，降低了工程成本。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附 光学 点靶座 | ||
【主权项】：
吸附式光学对点靶座，包括靶座（4），所述靶座（4）上设置有贯穿靶座（4）的通孔，其特征在于：所述靶座（4）采用磁性材料制成，通孔内设置有放大装置（6）和定位装置，定位装置设置在放大装置（6）的下方，且定位装置的中心线和通孔的中心线在同一条直线上。
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