[实用新型]匀光装置及光源系统有效

专利信息
申请号: 201220287513.1 申请日: 2012-06-18
公开(公告)号: CN202675155U 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 胡飞;曹亮亮 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: F21V5/04 分类号: F21V5/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供一种对点光源产生的入射光线整形的匀光装置及包括该匀光装置的光源系统,该点光源的入射光线在与该光源的中心轴垂直的任意平面上形成的光斑的照度分布由中央向外减弱。该匀光装置的特征在于,匀光装置至少包括匀光透镜,该匀光透镜包括第一曲面和第二曲面。第一曲面接收光源的出射光线并改变其传播方向,使得光源的出射光线交于一点或者出射光线所在直线相交于一点并出射至第二曲面。第二曲面为接收从第一曲面折射的入射光线的自由曲面,该第二曲面由位于光源的中心轴方向的预定位置的一标准曲面变形获得,并且第二曲面可以对入射光线整形为均匀的光强分布或者照度分布。本实用新型中的匀光装置及光源系统可以实现良好的整形效果。
搜索关键词: 装置 光源 系统
【主权项】:
一种匀光装置,对光源产生的入射光线整形,所述光源的发光面的最大长度小于等于该光源与相邻光学元件的距离的十分之一且该光源的发光面的面积小于所述相邻光学元件接收光源入射光的表面面积的十分之一,该光源为近似点光源,并且所述光源的入射光线在与该光源的中心轴垂直的任意平面上形成的光斑的照度分布由中央向外减弱,所述匀光装置的特征在于,所述匀光装置至少包括匀光透镜,该匀光透镜包括:第一曲面,该第一曲面接收所述光源的出射光线并改变其传播方向,使得所述光源的出射光线交于一点或者出射光线所在直线相交于一点,该点为所述光源的成像点;第二曲面,该第二曲面的入射光线为从第一曲面出射的光线,所述第二曲面为自由曲面,并由位于所述光源的中心轴方向的预定位置的一标准曲面变形获得,该标准曲面为可对入射光线整形为平行光的曲面;除所述中心轴方向外,沿着从该中心轴至中心轴的侧向的方向,所述入射光线在第二曲面上的入射角度与该入射光线在标准曲面上的入射角度的差值保持同号,所述入射光线在第二曲面上的入射角度与该入射光线在标准曲面上的入射角度的差值的绝对值单调递增,且该入射光线在所述第二曲面上的入射角度与该入射光线在标准曲面上的入射角度的差值的绝对值的变化率递减,以使所述第二曲面的出射光线在预定立体角内比所述入射光线具有更均匀的光强分布。
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