[实用新型]硅片检测装置有效

专利信息
申请号: 201220299096.2 申请日: 2012-06-25
公开(公告)号: CN202676616U 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 刘夏初;苗新利;潘加永 申请(专利权)人: 库特勒自动化系统(苏州)有限公司
主分类号: G01N21/89 分类号: G01N21/89
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 215168 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种硅片检测装置,用于检测硅片表面沾污,其包括用以传送硅片的传送带、位于传送带上方的光源模组、以及位于光源模组上方的影像传感器,光源模组的截面呈“n”形,其两侧边缘底部各设有LED灯,光源模组的顶部开设一狭缝,影像传感器位于穿过狭缝的光线方向上。本实用新型可弱化影像传感器捕获的硅片晶界的视觉图像,从而突出显示硅片表面的沾污图像。
搜索关键词: 硅片 检测 装置
【主权项】:
一种硅片检测装置,用于检测硅片表面沾污,其包括:用以传送硅片的传送带、位于传送带上方的光源模组、以及位于光源模组上方的影像传感器,其特征在于:光源模组的截面呈“n”形,其两侧边缘底部各设有LED灯,光源模组的顶部开设一狭缝,影像传感器位于穿过狭缝的光线方向上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于库特勒自动化系统(苏州)有限公司,未经库特勒自动化系统(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220299096.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top