[实用新型]一种防金属离子污染的硅片烘干炉

摘要

本实用新型公开了一种防金属离子污染的硅片烘干炉，包括炉体、设在炉体内的加热装置、硅片传送装置和控制单元，炉体内壁为石英板，加热装置包括石英管远红外加热灯，硅片传送装置包括多条硅片平置轨道和相应传送机构，传送机构为往复式步进机构，炉膛内还充满保护气体，本实用新型的烘干炉内所有与硅片接触部位均采用石英材料制成，避免了硅片与金属零件的接触，往复式步进传送机构，解决了普通链式金属网带易产生金属离子污染或采用树脂网带在高温下老化快的难题，而在烘干过程中，硅片始终处于高纯氮气的保护中，防止金属离子对硅片造成二次污染。

主权项

一种防金属离子污染的硅片烘干炉，用于太阳能电池硅片（1）的烘干作业，所述烘干炉设在框架（2）上，其特征在于：包括炉体（3）、设在炉体内的加热装置、硅片传送装置和控制单元，其中炉体，包括内壁板（4）和炉外板（5），内壁板和炉外板之间空腔形成隔热层（6），所述内壁板为石英板，在炉体两侧设有硅片进口（7）和硅片出口（8），在炉体顶部设有保护气体进气口（9）和排气口（10），在炉体底部设有与硅片传送机构相对应的开口；加热装置，包括若干外壁为石英管的远红外加热灯（11）；输送装置，包括若干平行排列的硅片平置轨道和相应的硅片传送机构，所述每个硅片平置轨道包括设在炉内的两根平行且等高的石英放置条（12）和分别设在炉体硅片进口和硅片出口且处在所述石英放置条延伸线上的若干石英放置块（13），石英放置条的顶面与石英放置块的顶面等高形成水平的硅片放置面，两根石英放置条之间的间距与硅片的宽度相吻合；控制单元，连接硅片传送机构各气缸、加热装置红外灯和保护气体流量控制装置，监测并控制硅片传送速度、烘干加热功率、保护气体流量和风帘气体流量。