[实用新型]用于单晶炉的石墨坩埚有效
| 申请号： | 201220326037.X | 申请日： | 2012-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN202688508U | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 陈五奎;耿荣军;李军;徐文州;冯加保 | 申请（专利权）人： | 乐山新天源太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所 51124 | 代理人： | 刘世平 |
| 地址： | 614000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种能够提高单晶硅纯度的用于单晶炉的石墨坩埚。该石墨坩埚，包括锅壁与锅底，所述锅壁上设置有多个沿壁厚方向贯穿锅壁的排渣孔。通过设置排渣孔，使得从石英坩埚毛面脱落的二氧化硅颗粒在高速惰性气体的裹带下，会直接从排渣孔中排出，然后从单晶炉炉体底部设置的抽气孔排出，能够有效防止脱落的二氧化硅颗粒沿着石英坩埚与石墨坩埚之间的缝隙向上冲出后掉落至石英坩埚内，进而避免最后生产出来的单晶硅存在二氧化硅的杂质颗粒，能够大大提高单晶硅的纯度，使其达到生产要求。将锅壁设置成整体式结构，可以减少二氧化硅颗粒对石墨坩埚的冲刷，能够大大延长石墨坩埚的使用寿命。适合在单晶生产设备领域推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 单晶炉 石墨 坩埚 | ||
【主权项】：
用于单晶炉的石墨坩埚，包括锅壁（1）与锅底（2），其特征在于：所述锅壁（1）上设置有多个沿壁厚方向贯穿锅壁（1）的排渣孔（3）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐山新天源太阳能科技有限公司，未经乐山新天源太阳能科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220326037.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于制备圆筒状静电纺丝膜过滤器的装置
- 下一篇：电泳槽装置
