[实用新型]具有可变化析出结晶体造型的饰品有效

专利信息
申请号: 201220330109.8 申请日: 2012-07-10
公开(公告)号: CN202986614U 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 施瑞贤 申请(专利权)人: 施瑞贤
主分类号: B44C5/00 分类号: B44C5/00
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 11239 代理人: 王永辉
地址: 中国台湾台中市北屯*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种具有可变化析出结晶体造型的饰品,其主要包含一容器、一盖体、一结晶体附着部以及一过饱和溶液。所述容器,为内部具有一容置空间,该容置空间上方为一开放之开口;所述盖体,覆盖于该容器之开口处,该盖体上具有一贯穿该盖体之中空管体;所述结晶体附着部,设置于该容器之容置空间中;所述过饱和溶液,系装填于该容器之容置空间内,使该盖体之中空管体透空于过饱和溶液液面上方及该结晶体附着部沉置于该过饱和溶液中。藉此,利用该过饱和溶液析出结晶体而附着于该结晶体附着部。
搜索关键词: 具有 变化 析出 结晶体 造型 饰品
【主权项】:
一种具有可变化析出结晶体造型的饰品,系包含: 一容器,内部具有一容置空间,该容置空间上方为一开放的开口; 一盖体,覆盖于该容器之开口处,该盖体上具有一贯穿该盖体的中空管体; 一结晶体附着部,设置于该容器的容置空间中;以及 一过饱和溶液,装填于该容器的容置空间内,使该盖体的中空管体透空于过饱合溶液液面上方及该结晶体附着部沉置于该过饱和溶液中,藉以利用该过饱和溶液析出结晶体而附着于该结晶体附着部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施瑞贤,未经施瑞贤许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220330109.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top