[实用新型]一种板式ETP PECVD 结构有效

专利信息
申请号: 201220345588.0 申请日: 2012-07-17
公开(公告)号: CN202730227U 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 芶富均 申请(专利权)人: 成都达信成科技有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/34;C23C16/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610200 四川省成都市双流西南*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及一种平板式ETPPECVD沉积系统,用于光伏领域内氮化硅、氢化非晶/微晶硅薄膜的沉积。一种板式ETPPECVD系统,上料台、下料台、电路系统、气路系统、自动控制系统、冷却水循环系统、真空下石墨载板传输系统通过螺栓依次固定于台架上,其特征在于:第一和第二初级真空腔室分别与各自的真空抽气系统连接;预热腔室和氢钝化腔室、SiNx薄膜沉积腔室、冷却腔室通过管路与第一和第二初级真空腔室连接;ETPPECVD沉积腔室通过管路和真空抽气系统连接。本实用新型实现了生产线流水作业、快速沉积,解决了微波等离子体平板PECVD存在的产能低和成本较高等问题。
搜索关键词: 一种 板式 etp pecvd 结构
【主权项】:
一种板式ETP PECVD结构,包括上料台、下料台、电路系统、气路系统、自动控制系统、冷却水循环系统、真空下石墨载板传输系统通过螺栓依次固定于台架上,其特征在于:第一和第二初级真空腔室分别与各自的真空抽气系统连接;预热腔室和氢钝化腔室、SiNx薄膜沉积腔室、冷却腔室通过管路与第一和第二初级真空腔室连接;ETP PECVD沉积腔室通过管路和真空抽气系统连接。
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