[实用新型]一种PECVD镀膜设备特气槽有效
申请号: | 201220350489.1 | 申请日: | 2012-07-17 |
公开(公告)号: | CN202688438U | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 张自成;张杜超;李倩 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种PECVD镀膜设备特气槽,包括:保护板主体,保护板主体包括底板和侧板;底板上开设有用于特气输出的第一特气孔;侧板铰接于底板的两侧,侧板上开设有用于特气输出的第二特气孔;夹紧组件,夹紧组件包括夹紧弹簧和固定轴;夹紧弹簧套设于固定轴上,固定轴固定设置于保护板主体上;夹紧弹簧的两端均设置有分别与底板和侧板抵接的尾端,夹紧弹簧套设于安装轴上。本实用新型提供的PECVD镀膜设备特气槽,通过夹紧组件将保护板主体安装于特气输送管上的结构设计,能够使得侧板在夹紧弹簧的作用下,紧抱于特气输送管上,其连接可靠。并且,当需要将本实用新型安装或者拆卸时,仅需要扳动侧板即可实现,其拆卸操作简单易行。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 镀膜 设备 特气槽 | ||
【主权项】:
一种PECVD镀膜设备特气槽,用于对PECVD镀膜设备特气输送管的保护,其特征在于,包括:保护板主体,所述保护板主体包括底板(1)和侧板(2);所述底板(1)上开设有用于特气输出的第一特气孔;所述侧板(2)铰接于所述底板(1)的两侧,所述侧板(2)上开设有用于特气输出的第二特气孔;夹紧组件,所述夹紧组件包括夹紧弹簧(3)和固定轴(4);所述夹紧弹簧(3)套设于所述固定轴(4)上,所述固定轴(4)固定设置于所述保护板主体上;所述夹紧弹簧(3)的两端均设置有分别与所述底板(1)和所述侧板(2)抵接的尾端(31),所述夹紧弹簧(3)套设于所述安装轴上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的