[实用新型]一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材有效
| 申请号： | 201220353069.9 | 申请日： | 2012-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN202688425U | 公开（公告）日： | 2013-01-23 |
| 发明（设计）人： | 李晨光 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲光科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人： | 施秀瑾 |
| 地址： | 330000 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于磁控溅射镀膜靶材，尤其涉及一种形成介质膜的MF磁控溅射用靶材。它包括背板，所述背板的上表面有一凸起条状部分，所述背板上的靶材通过粘接层与背板相连。溅射镀膜过程中，靶材中间背板材质凸起条状部分有效的阻挡由于局部高温等因素引起的邦定材质喷溅，该技术方案极大地提高了溅射镀膜成品良率及提高了靶材利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 柔性 基材 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材，其特征在于：它包括背板（3），所述背板（3）的上表面有一凸起条状部分，所述背板（3）上的靶材（1）通过粘接层（2）与背板（3）相连。
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