[实用新型]曝光机晒架有效
| 申请号： | 201220366101.7 | 申请日： | 2012-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN202794847U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 李炬;肖丽;王金鹏;李松凌;王安建;佘瑞峰 | 申请（专利权）人： | 四川聚能核技术工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 李世喆 |
| 地址： | 621700 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及机械领域，尤其是涉及一种曝光机晒架包括：上框、底片移动板、下框、底片对位系统、覆铜箔板对位系统、上玻璃以及下玻璃；所述上玻璃设置于所述上框下侧，且与所述上框固定连接；所述下玻璃设置于所述底片移动板的上侧，且与所述底片移动板固定连接；所述上框与所述下框转动连接，所述底片移动板置于所述下框与所述上玻璃之间，与所述底片对位系统连接；所述底片对位系统置于所述下框的下侧，用于移动底片移动板；所述覆铜箔板对位系统设置于所述下框的下侧。本实用新型所提供的曝光机晒架中，设置了底片移动板、底片对位系统以及覆铜箔板对位系统，生产过程中，能够自动修复底片与底片、底片与覆铜箔板对位中出现的偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机晒架 | ||
【主权项】：
曝光机晒架，其特征在于，包括：上框、底片移动板、下框、底片对位系统、覆铜箔板对位系统、上玻璃以及下玻璃；其中，所述上玻璃设置于所述上框下侧，且与所述上框固定连接；所述下玻璃设置于所述底片移动板的上侧，且与所述底片移动板固定连接；所述上框与所述下框转动连接，所述底片移动板置于所述下框与所述上玻璃之间，与所述底片对位系统连接；所述底片对位系统置于所述下框的下侧，用于移动底片移动板；所述覆铜箔板对位系统设置于所述下框的下侧。
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