[实用新型]一种易于识别的用于LED制作的光罩版有效
| 申请号： | 201220377465.5 | 申请日： | 2012-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN202837805U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 古杰辉;庄家铭;黄惠葵;王安平;范慧丽 | 申请（专利权）人： | 安徽三安光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42;G03F1/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 241000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种易于识别的LED芯片的光罩版，即在光罩版的空白区添加放大版的芯粒图形和放大版的对准标志点，可实现在进行光罩作业时，通过放大版的芯粒图形获得一个简单直观的光罩版形象，从而可以有效地降低用错光罩版的异常可能，提高芯片制程的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 易于 识别 用于 led 制作 光罩版 | ||
【主权项】：
一种易于识别的用于LED制作的光罩版：其特征在于：在用于LED制作的光罩版的空白区添加放大版的芯粒图形和放大版的对准标志点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽三安光电有限公司，未经安徽三安光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220377465.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多功能电子钟
- 下一篇：一种监控设备主机内加热和散热系统
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
