[实用新型]可调式真空磁控溅射阳极罩有效
| 申请号： | 201220393312.X | 申请日： | 2012-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN202744623U | 公开（公告）日： | 2013-02-20 |
| 发明（设计）人： | 赵跃林;彭春超;林果 | 申请（专利权）人： | 许昌天地和光能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 461000 河南省许昌*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种可调式真空磁控溅射阳极罩，包括固定在靶背面的阳极罩，阳极罩的外侧面上设置有阳极罩溅射孔，其中，在阳极罩溅射孔的一侧设置有可以调节的活动挡板，所述活动挡板包括铰接在一起的上半部分和下半部分，上、下两部分挡板的非固定端绕节点运动时在阳极罩上表面移动，保证其与阳极罩上表面平行。本实用新型能灵活调节靶材的有效溅射面积，也可实现对阳极罩溅射孔上、下的宽度进行单独调整，能够处理多种工艺调节中常为出现的方阻状态。L型推杆可以对活动挡板进行调整，能够在非停机状态下对工艺进行改善，有效缩短恢复工艺时间。 | ||
| 搜索关键词： | 调式 真空 磁控溅射 阳极 | ||
【主权项】：
一种可调式真空磁控溅射阳极罩，包括固定在靶背面的阳极罩，阳极罩的外侧面上设置有阳极罩溅射孔，其特征是：所述阳极罩溅射孔为矩形孔，在阳极罩溅射孔的一侧设置有可以调节的活动挡板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许昌天地和光能源有限公司，未经许昌天地和光能源有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201220393312.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：水电解制氢的冷凝液回收系统
- 下一篇：大直径线坯在线连续热镀锡装置
- 同类专利
- 专利分类
