[实用新型]改良的平面抛光机上抛头

摘要

本实用新型是有关于一种改良的平面抛光机上抛头，是指上定盘通过全方位微幅上下摆动的浮动机构安设在连接轴，连接轴是安设在基座被第一驱动装置驱动升、降位移，当基座或第一驱动装置上升或下降时，该上定盘均以设定的微幅摆动并对应着连接轴。当对下定盘的工件研磨时，该安设在上定盘的抛光部件可以接近面接触形态预先触及工件，并随之以均匀之力全面密贴工件，防止工件被撞击破裂、损坏。

主权项

一种改良的平面抛光机上抛头，其包含有基座，安设在抛光机的机台，第一驱动装置，安设在基座，连接轴，活枢在基座，一端枢接于第一驱动装置，上定盘，供研磨抛光部件安置，其特征在于其还包含有浮动机构，与上定盘与连接轴枢接，该浮动机构具有：第一套体，设有中心孔穿套安置在连接轴，周面设有相对应的横向导孔；第二套体，设有供第一套体容纳套设的中心孔，该中心孔大于第一套体，使相互套设具有设定间隙，周面设有与第一套体的横向导孔对应的第一横向导孔，在第一横向导孔相对应九十度角位置，另设有相对应的第二横向导孔；第一转动件，安设在第二套体的第一横向导孔和第一套体的横向导孔处，使第二套体以第一套体和第二套体之间的设定间隙为活动范围摆动；第三套体，与上定盘安置，设有中心孔供第二套体容纳套设，该中心孔大于第二套体，使相互套设具有设定间隙，周面设有与第二套体的第二横向导孔相对应的横向导孔；第二转动件，安设在第三套体的横向导孔和第二套体的第二横向导孔处，使第三套体以第二套体和第三套体之间的设定间隙为活动范围摆动。