[实用新型]立式高压高流率气淬真空炉有效
| 申请号： | 201220400364.5 | 申请日： | 2012-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN202808882U | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 王全利 | 申请（专利权）人： | 王全利 |
| 主分类号： | C21D1/62 | 分类号： | C21D1/62;C21D1/773;C21D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300204 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种立式高压高流率气淬真空炉，其包括炉架，设置在所述炉架上的工作室，所述炉架上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖，所述真空炉还包括驱动所述的封盖运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱，所述工作室内设有用于检测其真空度的检测器，该真空炉结构简单、节能环保、安全可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 立式 高压 高流率气淬 真空炉 | ||
【主权项】：
一种立式高压高流率气淬真空炉包括炉架，设置在所述炉架上的工作室，其特征在于，所述炉架上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖，所述真空炉还包括驱动所述的封盖运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱，所述工作室内设有用于检测其真空度的检测器；所述控制箱上具有控制器，其中检测器与控制器相电连接，控制器与所述的驱动机构相电连接。
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