[实用新型]基于热加速腐蚀的射流研抛机构有效
申请号: | 201220407140.7 | 申请日: | 2012-08-16 |
公开(公告)号: | CN202878127U | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | B24C3/02 | 分类号: | B24C3/02;B24C5/00;B24C9/00 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 杨引雪 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型提供一种基于热加速腐蚀的射流研抛机构,主要解决了现有光学元件,尤其是非球面光学元件加工时成本较高,加工效率较低的问题。基于热加速腐蚀的射流研抛机构,包括被加工件固定装置和用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置。本实用新型效率高,射流溶液从腐蚀液逐渐过渡到水,腐蚀液的引入及温度控制变量的引入,大幅提高了射流技术的材料去除能力,可以实现非球面的铣磨。 | ||
搜索关键词: | 基于 加速 腐蚀 射流 机构 | ||
【主权项】:
一种基于热加速腐蚀的射流研抛机构,包括被加工件固定装置,其特征在于:还包括用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置;所述执行装置上设置有喷嘴,储液装置通过连接管道依次与加热装置和喷嘴连接。
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