[实用新型]一种MOCVD设备有效

专利信息
申请号: 201220420460.6 申请日: 2012-08-23
公开(公告)号: CN202786418U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 陈爱华;金小亮;张伟;吕青;施建新;陈凯辉 申请(专利权)人: 中晟光电设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及MOCVD设备,使两种气体的喷孔均匀有间隔地交替分布在进气装置的底面,使两种气体进入反应区域后能有效混合,并容易控制气体均匀垂直地输送到衬底片表面上,来进行外延反应。衬底片的托盘采用高速旋转的结构,利用由此产生的泵效应能够把反应气体迅速地输送到衬底片的表面上,并且通过高速旋转的离心力还可以把反应后的气体迅速排出,实现了外延生长需要的条件。此外,反应区域的空间高度适合配置机械手,以便于实现对托盘的机械化传送,使得MOCVD设备适合自动化生产的要求。
搜索关键词: 一种 mocvd 设备
【主权项】:
一种MOCVD设备,其特征在于,包括:反应腔体、托盘、旋转轴和进气装置,其中所述托盘位于所述反应腔体内,该托盘用于放置至少一个衬底片;所述旋转轴与托盘直接接触,用以支撑托盘以及带动托盘旋转;所述进气装置位于托盘上方,该进气装置底面设有多个均匀分布的喷孔,用以输出至少两路反应气体至所述托盘的上表面,所述喷孔至少包括第一喷孔和第二喷孔,所述第一喷孔用以输出第一反应气体,所述第二喷孔用以输出第二反应气体。
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