[实用新型]一种用于MEMS光学器件的薄膜封帽封装结构有效

专利信息
申请号: 201220422223.3 申请日: 2012-08-23
公开(公告)号: CN202785632U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 罗九斌;欧文;明安杰;张昕;赵敏;秦毅恒;谭振新;顾强;吴健 申请(专利权)人: 江苏物联网研究发展中心
主分类号: B81B7/00 分类号: B81B7/00
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214135 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种薄膜封帽封装结构,尤其是一种用于MEMS光学器件的薄膜封帽封装结构,具体地说制备得到的薄膜封帽能够满足晶圆级和芯片级封装的要求,属于MEMS封装的技术领域。按照本实用新型提供的技术方案,所述用于MEMS光学器件的薄膜封帽封装结构,包括衬底及位于所述衬底上的MEMS光学结构;所述衬底上设置薄膜封帽,所述薄膜封帽的端部边缘通过键合层与衬底键合固定连接;薄膜封帽与衬底间形成容纳MEMS光学结构的腔体,所述MEMS光学结构位于腔体内。本实用新型结构紧凑,制造方便,降低了制造成本,气密性好,适应范围广,安全可靠。
搜索关键词: 一种 用于 mems 光学 器件 薄膜 封装 结构
【主权项】:
一种用于MEMS光学器件的薄膜封帽封装结构,包括衬底(9)及位于所述衬底(9)上的MEMS光学结构(8);其特征是:所述衬底(9)上设置薄膜封帽(4),所述薄膜封帽(4)的端部边缘通过键合层(5)与衬底(9)键合固定连接;薄膜封帽(4)与衬底(9)间形成容纳MEMS光学结构(8)的腔体(11),所述MEMS光学结构(8)位于腔体(11)内;所述薄膜封帽(4)的外表面上覆盖有第一光学增透膜(6),薄膜封帽(4)的内表面上覆盖有第二光学增透膜(7),所述第二光学增透膜(7)位于MEMS光学结构(8)的正上方。
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