[实用新型]用于碱性蚀刻液再生设备的温控槽结构有效
| 申请号： | 201220423590.5 | 申请日： | 2012-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN202705486U | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 韦建敏;张小波;吴圣杰;张晓蓓 | 申请（专利权）人： | 成都虹华环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/46 | 分类号： | C23F1/46 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 谢敏 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于碱性蚀刻液再生设备的温控槽结构，包括槽体和槽体底部的底座，所述槽体内部凹陷形成反应槽，反应槽中部设有两块竖直的挡板，挡板上开有挡板溢流口，挡板之间还连接有连接板，槽体在连接板的上下两侧分别开有再生液出管口和母液管口，所述再生液出管口和母液管口位于槽体后端面并与反应槽连通，槽体在后端面的中间底部位置开有与反应槽连通的循环液出管口，槽体后端面上部和左右两侧面还开有与反应槽连通的溢流管口。本实用新型的优点在于：本实用新型设计的这种用于碱性蚀刻液再生设备的温控槽结构，不仅结构简单、成本低，且密封性好。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 碱性 蚀刻 再生 设备 温控 结构 | ||
【主权项】：
用于碱性蚀刻液再生设备的温控槽结构，包括槽体（10）和槽体（10）底部的底座（6），其特征在于：所述槽体（10）内部凹陷形成反应槽（5），反应槽（5）中部设有两块竖直的挡板（4），挡板（4）上开有挡板溢流口（11），挡板（4）之间还连接有连接板（12），槽体（10）在连接板（12）的上下两侧分别开有再生液出管口（9）和母液管口（7），所述再生液出管口（9）和母液管口（7）位于槽体（10）后端面并与反应槽（5）连通，槽体（10）在后端面的中间底部位置开有与反应槽（5）连通的循环液出管口（8），槽体（10）后端面上部和左右两侧面还开有与反应槽（5）连通的溢流管口（3）。
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