[实用新型]衬底支撑结构、含有上述衬底支撑结构的反应腔室有效
| 申请号： | 201220429481.4 | 申请日： | 2012-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN202766617U | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 黄允文 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种衬底支撑结构和含有上述衬底支撑结构的反应腔室，所述衬底支撑结构包括：衬底支撑盘和圆筒状旋转体，所述圆筒状旋转体竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状旋转体的顶端；所述圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽之间能够进行相对运动或所述支撑件凹槽与支撑盘突起之间能够进行相对运动，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体。本实用新型解决了放置衬底的衬底支撑盘在转动过程中容易飞出去、转动不稳定的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 支撑 结构 含有 上述 反应 | ||
【主权项】：
一种衬底支撑结构，包括：衬底支撑盘和圆筒状旋转体，所述圆筒状旋转体竖直设置，所述衬底支撑盘支撑于所述圆筒状旋转体的顶端；其特征在于：所述圆筒状旋转体的顶端具有支撑件突起或支撑件凹槽，所述衬底支撑盘具有与对应所述支撑件突起或支撑件凹槽相对应的支撑盘凹槽或支撑盘突起，所述支撑件突起与支撑盘凹槽之间能够进行相对运动或所述支撑件凹槽与支撑盘突起之间能够进行相对运动，将所述衬底支撑盘锁紧于所述圆筒状旋转体。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
