[实用新型]易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备有效
申请号: | 201220437559.7 | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN202808937U | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 许亮 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备,至少包括清洗气体发生装置、及通过主通道依次顺序连通的反应室、隔离阀、压力调节阀及抽气泵,其中,所述清洗气体发生装置通过清洗气体供应通道连通至所述反应室的第一输入端,所述清洗气体供应通道与一设有第一阀门的旁通道的一端连通,位于所述隔离阀和压力调节阀之间的主通道与所述旁通道的另一端连通。本实用新型增加了直接引入清洗气体至压力调节阀的旁通道,有效地针对压力调节阀及与其连接的通道上附着的副产物进行清除,保证了压力调节阀的长期正常运转;本实用新型中的相关装置及阀门均通过计算机进行控制,易于操作,且本实用新型设计简单方便,便于实施,成本低。 | ||
搜索关键词: | 易于 清洗 压力 调节 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种易于清洗压力调节阀的化学气相沉积设备,其特征在于,所述化学气相沉积设备至少包括:清洗气体发生装置、及通过主通道依次顺序连通的反应室、隔离阀、压力调节阀及抽气泵;其中,所述清洗气体发生装置通过清洗气体供应通道连通至所述反应室的第一输入端,所述清洗气体供应通道与一设有第一阀门的旁通道的一端连通,位于所述隔离阀和压力调节阀之间的主通道与所述旁通道的另一端连通。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220437559.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种带有地线的母线槽插接分支盒
- 下一篇:配电箱支架
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的