[实用新型]一种减少类金刚石镀膜过程中打火的真空室有效

专利信息
申请号: 201220442903.1 申请日: 2012-08-31
公开(公告)号: CN202766614U 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 李灿民;陶满;陶圣全 申请(专利权)人: 合肥永信等离子技术有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/32
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生;王伟
地址: 230041 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种减少类金刚石镀膜过程中打火的真空室,其特征在于,真空室内悬挂有一个由上下两层结构组成的金属支架,所述金属支架的上下两层之间通过绝缘子连接;所述金属支架的下层平行设置有多根悬杆;所述真空室内还设有带电子逃逸口的金属网罩,所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其悬挂在金属支架的下层悬杆上;所述金属支架的下层与高压脉冲电源电连接。本实用新型一方面通过在金属网罩上设置电子逃逸口,可以避免电荷在工件、网罩、支架上的积累,另一方面,装置在金属支架的上下层之间引入绝缘子,在保证电子隔离的同时,不会产生任何的间隙,成功解决了镀膜过程中的打火现象。
搜索关键词: 一种 减少 金刚石 镀膜 过程 打火 真空
【主权项】:
一种减少类金刚石镀膜过程中打火的真空室,其特征在于,真空室内悬挂有一个由上下两层结构组成的金属支架,所述金属支架的上下两层之间通过绝缘子连接;所述金属支架的下层平行设置有多根悬杆;所述真空室内还设有带电子逃逸口的金属网罩,所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其悬挂在金属支架的下层悬杆上;所述金属支架的下层与真空室外高压脉冲电源电连接。
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