[实用新型]一种新型铝制晶圆加热盘有效
申请号: | 201220445614.7 | 申请日: | 2012-09-03 |
公开(公告)号: | CN202786423U | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 凌复华;吴凤丽;国建花 | 申请(专利权)人: | 沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 甄玉荃 |
地址: | 110179 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种半导体镀膜设备用新型铝制晶圆加热盘,主要解决现有的铝制加热盘容易出现打火而影响设备产能及增加使用成本的问题。其结构是在铝制加热盘中心设有一个凸台,凸台上镶嵌有一内侧具有带凹台阶的陶瓷环,共同组成新型的铝制晶圆加热盘。上述铝制加热盘下部的连接基座通过连接杆伸出腔体,使整个加热盘在腔体外面安装固定。加热盘内部镶有加热丝,铝制加热盘中心处设有外置的加热电缆及报警、测温用热电偶,二者均通过空心的连接杆伸出连接基座外。铝制加热盘上的凸台直径及陶瓷环凹台阶直径随晶圆直径而变。该产品在原有纯铝制加热盘的基础上进行改进,并在实现基本功能的前提下,还可避免因铝盘裸露而导致的打火现象,同时,该晶圆加热盘的陶瓷环及铝制加热盘均能重复利用,并达到优于单纯铝制加热盘。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 铝制 加热 | ||
【主权项】:
一种新型铝制晶圆加热盘,包括铝制加热盘,其特征在于:在铝制加热盘中心设有一个凸台,凸台上镶嵌有一内侧具有带凹台阶的陶瓷环。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的