[实用新型]气体混合装置以及流体混合系统有效
| 申请号： | 201220448524.3 | 申请日： | 2012-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN202951432U | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 魏强;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B01F13/10 | 分类号： | B01F13/10;B01F3/02 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张龙哺;冯志云 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供气体混合装置以及流体混合系统，与等离子体处理设备配合使用，用于将多种反应气体混合后导入所述等离子体处理设备中进行等离子体处理，所述反应气体至少包括第一气体和第二气体，所述混合装置包括：混合气体管道，其一端至少设有第一气体进气口和第二气体进气口，其另一端设有一混合气体出口；所述第一气体进气口用于通入所述第一气体；所述第二气体进气口用于通入所述第二气体；所述混合气体出口用于将混合后的所述反应气体导入所述等离子体处理设备中；所述混合气体管道是一条横截面面积变化的管道，本实用新型的气体混合装置，能够在有限的空间内，通过连续变换管道的横截面面积，大大加强管道混合气体的能力和速度。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 混合 装置 以及 流体 系统 | ||
【主权项】：
一种气体混合装置，与等离子体处理设备(24)配合使用，将多种气体混合后导入所述等离子体处理设备(24)中进行等离子体处理，所述气体至少包括第一气体和第二气体，所述混合装置包括：混合气体管道(1)，其一端至少设有第一气体进气口(21)和第二气体进气口(22)，其另一端设有一混合气体出口(23)；所述第一气体通过所述第一气体进气口(21)通入所述混合气体管道(1)；所述第二气体通过所述第二气体进气口(22)通入所述混合气体管道(1)；所述混合气体出口(23)将混合后的所述气体导入所述等离子体处理设备(24)中；其特征在于：所述混合气体管道(1)是一条横截面面积有变化的管道(1)。
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