[实用新型]金属有机物化学气相沉积设备及用于其中的隔离装置有效
申请号: | 201220456637.8 | 申请日: | 2012-09-10 |
公开(公告)号: | CN202830167U | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 陈凯辉;徐春阳;李淼;金文彬;吕青;王国斌;张伟 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于MOCVD设备的隔离装置,该隔离装置包含:第一隔离部分和第二隔离部分;第一隔离部分包含:第一环形挡板,与第一环形挡板相连接的支撑部,以及与支撑部相连接的若干个连杆;第二隔离部分包含第二环形挡板,第一隔离部分和第二隔离部分相结合时,第一环形挡板围绕第二环形挡板,第二环形挡板和支撑部相接触。采用这种分体式结构,既能满足快速升降温的需求,又能满足降低热能损耗的需求。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机物 化学 沉积 设备 用于 中的 隔离 装置 | ||
【主权项】:
一种用于金属有机物化学气相沉积设备的隔离装置,其特征在于,包含:第一隔离部分和可与所述第一隔离部分相分离的第二隔离部分;所述第一隔离部分包含:第一环形挡板(11),与所述第一环形挡板(11)相连接的支撑部(12),以及与所述支撑部(12)相连接的若干个连杆(13);所述第二隔离部分包含:第二环形挡板(21);所述第一隔离部分和所述第二隔离部分相结合时,所述第一环形挡板(11)围绕所述第二环形挡板(21),所述第二环形挡板(21)和所述支撑部(12)相接触。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的