[实用新型]一种温度均匀的低温设备有效
| 申请号： | 201220459521.X | 申请日： | 2012-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN202902685U | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 李国继;汪学其;董立新;周友龙;李文杰 | 申请（专利权）人： | 李国继 |
| 主分类号： | F25B19/04 | 分类号： | F25B19/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610031 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种温度均匀的低温设备，包括喷塑箱体(6)，喷塑箱体(6)内部为高真空多层绝热处理室(1)，高真空多层绝热处理室(1)采用真空、多层绝热结构；高真空多层绝热处理室(1)上盖安装将液氮分散汽化的循环系统(2)。通过安装在处理室上盖上的循环系统，将液氮分散汽化，让工件始终处于气态环境中，避免液氮直接冲击工件，整个处理室的温度均，温度梯度在2℃内。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 温度 均匀 低温 设备 | ||
【主权项】：
一种温度均匀的低温设备，包括喷塑箱体(6)，其特征在于，喷塑箱体(6)内部为高真空多层绝热处理室(1)，高真空多层绝热处理室(1)采用真空、多层绝热结构；高真空多层绝热处理室(1)上盖安装将液氮分散汽化的循环系统(2)。
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