[实用新型]一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶有效
| 申请号： | 201220477657.3 | 申请日： | 2012-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN202830160U | 公开（公告）日： | 2013-03-27 |
| 发明（设计）人： | 缪同群;张贵彦;王志洲;刘宝星 | 申请（专利权）人： | 上海新产业光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶。包括磁铁在内，其特征在于：还包括平面靶及与平面靶连接的传动系统在内的结构；磁铁固定不动，平面靶通过传动系统绕自己的中心轴进行匀速旋转运动。由于采用旋转平面靶技术，工作时磁铁固定不动，平面靶匀速旋转，使传统平面磁控溅射靶中存在的靶面刻蚀均匀性差，靶材利用率低的现象得到明显的改善，使靶面刻蚀均匀，大大提高靶材的溅射均匀性，同时又提高了靶材利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 溅射 均匀 旋转 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种提高靶材溅射均匀性的旋转平面磁控溅射靶，包括磁铁在内，其特征在于：还包括平面靶及与平面靶连接的传动系统的结构；磁铁固定不动，平面靶通过传动系统绕自己的中心轴进行匀速旋转运动。
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