[实用新型]金属有机物化学气相沉积设备的载片盘有效
申请号: | 201220484723.X | 申请日: | 2012-09-19 |
公开(公告)号: | CN202898536U | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 甘志银;胡少林;潘建秋;蒋小敏;植成杨;刘玉贵 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 李平 |
地址: | 528251 广东省佛山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于金属有机物化学气相沉积设备的载片盘,通过在载片盘下表面的特定位置处的圆周方向设置矩形或者曲面形式至少一条凸槽或者凹槽,或者在载片盘上表面的特定位置处设置至少一条矩形或者曲面形式凹槽,或者以上方式混合设置。本实用新型的优点是通过修正载片台不同圆周等处的厚度,改变载片台的局部热阻,以达到一次性修正由于加热部件制造误差和系统设计误差造成的温度不均性问题。本实用新型最终能实现载片台温度均匀性达到1摄氏度以内,并能实现设计上的所需要的特殊温度分布,以适应大尺寸外延生长的需求。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机物 化学 沉积 设备 载片盘 | ||
【主权项】:
一种金属有机物化学气相沉积设备的载片盘,载片盘(23)包括载片盘上表面(25)和载片盘下表面(29),载片盘上表面(25)上设置浅槽放置衬底(24),其特征在于在多区加热系统的相邻加热片耦合对应的载片盘下表面(29)位置附近处圆周方向设置至少一条凸槽或凹槽(31)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的