[实用新型]一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置有效
申请号: | 201220500089.4 | 申请日: | 2012-09-28 |
公开(公告)号: | CN202913056U | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 刘长江;连榕 | 申请(专利权)人: | 厦门烯成新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/52 |
代理公司: | 厦门市诚得知识产权代理事务所(普通合伙) 35209 | 代理人: | 赖开慧 |
地址: | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种气相沉积设备。本实用新型的一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置,所述装置包括一石英管,所述石英管输入端通过法兰连接有充气系统,所述石英管输出端通过法兰分别连接有气压调节器和真空系统,所述石英管外包围有加热炉膛。本实用新型的化学气相沉积装置可兼容常压与真空两种制备石墨烯薄膜的工艺,可实现自限制与渗析两种不同机理的石墨烯薄膜生长方式,实现整个石墨烯薄膜生长过程的实时监控和全自动化。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 石墨 薄膜 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置,其特征在于,所述装置包括一石英管,所述石英管输入端通过法兰连接有充气系统,所述石英管输出端通过法兰分别连接有气压调节器和真空系统,所述石英管外包围有加热炉膛。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的