[实用新型]显影装置有效
| 申请号： | 201220521039.4 | 申请日： | 2012-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN202794854U | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 胡华勇;伍强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提出的显影装置，通过添加一种带有开孔的显影喷头，使涂覆到晶圆表面中心和边缘上的显影液的时间相同，并且使显影液均匀的涂覆到晶圆表面的中心和边缘，使显影液与晶圆表面中心和边缘上的光刻胶层的反应程度一致，从而降低CD之间的差异，提高晶圆的良率；同时还添加一种带有开孔的冲洗喷头，使冲洗液同时对晶圆整体进行冲洗，进而减少晶圆中心和边缘酸碱度的差异，避免了冲洗过程中残留物的产生。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 | ||
【主权项】：
一种显影装置，其特征在于，包括：反应腔室；基座，固定在所述反应腔室内的底部；电子卡盘，下表面固定在所述基座的顶部；显影喷头，底端带有多个显影喷孔，并悬空置于所述电子卡盘的正上空；显影管路，由所述反应腔室外伸入，并与所述显影喷头相连接；冲洗喷头，底端带有多个冲洗喷孔，并悬空置于所述电子卡盘的上空；冲洗管路，由所述反应腔室外伸入，并与所述冲洗喷头相连接。
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