[实用新型]发光装置及相关投影系统有效

专利信息
申请号: 201220530217.X 申请日: 2012-10-17
公开(公告)号: CN202886723U 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 胡飞;李屹 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: G02B21/20 分类号: G02B21/20;F21V31/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518057 广东省深圳市南山区西丽*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型实施例公开了一种发光装置及相关投影系统,其特征在于,包括:发光光源阵列和用塑料制成的复眼透镜对,还包括用于将所述复眼透镜对密封固定的密封装置,该密封装置包括一光路入射面和一光路出射面,该两面分别位于所述复眼透镜对的两侧,使得光束从该密封装置的光路入射面透射进入该密封装置,并经所述复眼透镜对后从该光路出射面透射出射。本实用新型提供一种有效阻止复眼透镜对的损伤阈值减小的发光装置。
搜索关键词: 发光 装置 相关 投影 系统
【主权项】:
一种发光装置,其特征在于,包括:发光光源阵列,用于产生光束;复眼透镜对,该复眼透镜对的制成材料为塑料,用于对所述发光光源阵列产生的光束进行匀光;密封装置,为一个封闭的腔体,用于将所述复眼透镜对密封固定于该密封装置内,该密封装置包括一光路入射面和一光路出射面,该两面分别位于所述复眼透镜对的两侧,使得光束从该密封装置的光路入射面透射进入该密封装置,并经所述复眼透镜对后从该光路出射面透射出射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市绎立锐光科技开发有限公司,未经深圳市绎立锐光科技开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220530217.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top