[实用新型]一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置

摘要

本实用新型公开了一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置。旋转滚子密封装置是在投影透镜组和衬底之间的装置，由内构件、外构件、端盖和滚子组成。在光刻扫描过程中，浸没液体伴随衬底高速运动的牵拉作用，将产生与衬底运动方向一致的液体流动。该装置采用旋转滚子密封结构，通过动态调节滚子的旋转速度与方向，使得外围浸没液体获得抵抗衬底运动带来的流动。本实用新型可有效抵抗衬底牵拉运动产生的向外泄漏动能，在结合外围气体密封下进一步增强抑制液体泄漏的能力；此外本实用新型在浸没液体边界处可有效抵抗密封气体带来的冲击压力，并抑制气密封压力过大导致的液体边界气泡卷吸，从而有助于实现浸没流场密封的可靠性与稳定性。

主权项

一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置，包括投影透镜组（1）、旋转滚子密封装置和衬底（3），旋转滚子密封装置设置在投影透镜组（1）和衬底（3）之间；其特征在于：所述的旋转滚子密封装置（2）包括内构件（2A）、外构件（2B）、端盖（2C）和滚子（2D）；其中：1）内构件（2A）：内构件（2A）为正多边形环状柱体，共有6~10个外侧面，每外侧面均开有包络滚子（2D）的弧面（4A），环状柱体中心开有阶梯形孔，环状柱体上表面周边与中心大阶梯孔形成环状凸台（5A），环状凸台（5A）外侧为环形槽；2）外构件（2B）：外构件（2B）为正多边形环状柱体，有与内构件（2A）正多边形环状柱体外侧面相应的内侧面，外构件（2B）内侧面与内构件（2A）的外侧面对应开有包络滚子（2D）的弧面（4B），外构件（2B）上面在靠近弧面（4B）的周边开有环状凸台（5B），在环状凸台（5B）外的外构件（2B）圆周方向开有等距布置的10~20个环形注气通孔（6B）；3）端盖（2C）：端盖（2C）为环状柱体，贯穿端盖（2C）上下表面开有8~16个环形回气通孔（4C），端盖（2C）底面分别与内构件（2A）的环状凸台（5A）和外构件（2B）的环状凸台（5B）紧固连接在一起形成回气腔（6C），回气通孔（4C）位于回气腔（6C）的正上方，回气腔（6C）内填充吸水性多孔介质（8），端盖（2C）中心孔与内构件（2A）中心阶梯孔连通；4）滚子（2D）：滚子（2D）为圆柱体，每个滚子部分包络在内构件（2A）的弧面（4A）和外构件（2B）的弧面（4B）之间，每个滚子（2D）未包络部分的一侧露在内构件（2A）和外构件（2B）下表面外，每个滚子（2D）未包络部分的另一侧露在回气腔（6C）内。