[实用新型]一种改善扩散区域形貌的功率器件有效
申请号: | 201220579333.0 | 申请日: | 2012-11-06 |
公开(公告)号: | CN202948931U | 公开(公告)日: | 2013-05-22 |
发明(设计)人: | 乐双申;徐旭东;李旺勤 | 申请(专利权)人: | 宁波比亚迪半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/78;H01L29/739 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315800 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型提出了一种改善扩散区域形貌的功率器件,该功率器件包括衬底、外延层、埋层、源区,源区与外延层之间的埋层为导电沟道区,在靠近导电沟道区的外延层内形成有预扩散区,该功率器件还包括栅介质层、栅极、介质层、正面金属层、背面扩散区和背面金属层。本实用新型预扩散区使埋层向外延层平缓扩展,改善了沟道边缘扩散区域的形貌,优化了器件在高温高压下的电场分布,从而降低器件在高温高压下的漏电水平,能够大幅提高功率MOSFET、IGBT等功率器件的热可靠性,适合高温、大功率环境下工作的需要,并且制造过程与现有的功率器件工艺完全兼容,结构简单、制造方便,提高了生产效率和成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 扩散 区域 形貌 功率 器件 | ||
【主权项】:
一种改善扩散区域形貌的功率器件,其特征在于,包括:衬底及其上形成的外延层,所述外延层与所述衬底均为N型掺杂;在所述外延层内形成有埋层,所述埋层的上表面与外延层的上表面位于同一平面,所述埋层为P型掺杂;在所述埋层内形成有源区,所述源区的上表面与所述外延层的上表面位于同一平面,所述源为N型掺杂;在所述外延层内形成有预扩散区,所述预扩散区与所述埋层连接,且所述预扩散区的上表面与所述外延层的上表面位于同一平面,所述预扩散区为P型掺杂;在所述外延层的上表面上形成有栅介质层和栅极,所述栅介质层和栅极覆盖在埋层及所述源区的一部分之上;在所述栅极和外延层之上形成有介质层和正面金属层;在所述衬底之下形成有背面扩散区;以及在所述背面扩散区之下形成有背面金属层。
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