[实用新型]一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置

摘要

本实用新型公布了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液隔离装置；气密封和气液隔离装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体和浸没单元下端盖组成。本实用新型用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，实现缝隙流场的稳定更新。本实用新型采用气密封结构防止液体泄漏，采用气液隔离装置将缝隙流场周围的密封气体与内部的浸没液体隔离开来，即采用气体密封液体，液体密封液体的两级密封结构，在保证气密封优点的同时，能够有效的避免气液两相流的产生，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。

主权项

一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置，在浸没式光刻机中的投影物镜组(1)和硅片(3)之间设显置有气密封和气液隔离装置(2)；其特征在于：所述气密封和气液隔离装置(2)包括浸没单元下端盖(2A)、浸没单元中间体(2B)和浸没单元上端盖(2C)；其中：1) 浸没单元下端盖(2A)：在浸没单元下端盖(2A)开有中心通孔，沿浸没单元下端盖(2A)中心通孔向外，在浸没单元下端盖(2A)的上端面上开有四个中心对称均布的下端盖注液腔(4D)，四个下端盖注液腔(4D)内均开有沿圆周方向排列的注液孔阵列(4A)，下端盖注液腔(4D)依次向外在浸没单元下端盖(2A)的上端面上开有下端盖内侧密封沟槽（13A），下端盖内侧密封沟槽（13A）依次向外开有环形的下端盖液体回收腔(5D)，在下端盖液体回收腔(5D)内部开有圆周分布的液体回收孔阵列(5A)，下端盖液体回收腔(5D)依次向外开有下端盖外侧密封沟槽(9A)、环形的下端盖缓冲池(6A)、下端盖注气腔(7E)和下端盖第一气体回收腔，下端盖缓冲池(6A)内部开有六个等分分布的下端盖防浪板(10A)，在下端盖注气腔(7E)底面开有圆周分布的注气孔阵列(7A)；向下在浸没单元下端盖(2A)的下端面上开有气体压力均布腔(7D)，气体压力均布腔(7D)向上与注气孔阵列(7A)相连通，气体压力均布腔(7D)向外为下端盖第二气体回收腔，所述的下端盖第一气体回收腔和下端盖第二气体回收腔之间通过气体回收孔阵列(8A)连通；2) 浸没单元中间体(2B)：在浸没单元中间体(2B)上开有中心通孔，在浸没单元中间体(2B)的中心通孔依次向外的五个同心圆上分别依次开有四个等分的中间体注液腔(4B)、中间体液体回收腔(5B)、中间体缓冲池(6B)、中间体注气腔(7B)和中间体气体回收腔(8B)，中间体缓冲池(6B)内部开有六个等分分布的中间体防浪板(10B)，在中间体液体回收腔(5B)和中间体缓冲池(6B)之间开有中间体外侧密封沟槽(9B)，在中间体注液腔(4B)与中间体液体回收腔(5B)之间开有中间体内侧密封沟槽(13B)；3) 浸没单元上端盖(2C)：在浸没单元上端盖(2C)上开有中心通孔，在浸没单元上端盖(2C)的中心通孔向外的五个同心圆上分别依次开有四个等分的注液槽(4C)、三个液体回收槽(5C)、两个缓冲槽(6C)、两个注气槽(7C)和两个气体回收槽(8C)；所述的浸没单元下端盖(2A)、浸没单元中间体(2B)和浸没单元上端盖(2C)的接触面均为环形平面，并通过螺钉紧固连接。