[实用新型]一种多功能等离子体增强涂层系统有效

专利信息
申请号: 201220594109.9 申请日: 2012-11-12
公开(公告)号: CN203174194U 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 董小虹;张中弦;梁航;黄拿灿;亚历山大·哥罗沃依 申请(专利权)人: 广东世创金属科技有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/35
代理公司: 广州广信知识产权代理有限公司 44261 代理人: 张文雄
地址: 528313 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种多功能等离子体增强涂层系统,包括真空室(1)和真空获得装置,其特征在于:在真空室(1)的中央设有旋转工件台(12),在真空室(1)的内腔壁设有二个相邻的阴极电弧靶(2,4),阴极电弧靶之一带阻挡屏(3),在此阴极电弧靶(2)的正对面设有辅助阳极装置(11),阴极电弧靶之二位于阴极电弧靶之一的相邻处,由旋转工件台(12)、二个阴极电弧靶和真空室(1)、辅助阳极装置(11)和真空室(1)构成旋转式电弧离子镀等离子体增强涂层系统。本实用新型具有涂层表面精密、孔隙率低、涂层性能稳定、结构简单和成本低廉的有益效果。
搜索关键词: 一种 多功能 等离子体 增强 涂层 系统
【主权项】:
一种多功能等离子体增强涂层系统,包括真空室(1)和真空获得装置,其特征在于:在真空室(1)的中央设有旋转工件台(12),在真空室(1)的内腔壁设有二个相邻的阴极电弧靶(2,4),阴极电弧靶之一带阻挡屏(3),在此阴极电弧靶(2)的正对面设有辅助阳极装置(11),阴极电弧靶之二位于阴极电弧靶之一的相邻处,由旋转工件台(12)、二个阴极电弧靶和真空室(1)、辅助阳极装置(11)和真空室(1)构成旋转式电弧离子镀等离子体增强涂层系统。
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