[实用新型]掩膜版有效
| 申请号： | 201220600331.5 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN202886836U | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 李伟;刘富军;朱杰;魏崇喜 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型属于电子和显示制造技术领域，公开了一种掩膜版。通过在形成在透明衬底表面上的遮光层上覆盖透明的防护层，使得在近接曝光形式的曝光过程中，待曝光器件上的光刻胶挥发出的升华物凝结在防护层表面，易于清洗，同时还可以有效防止待曝光器件上的硬质颗粒划伤遮光层，造成掩膜版难以修复的损伤。由于防护层仅覆盖在掩膜版中部的图案区，能够避免掩膜版在搬运过程中损坏防护层。且防护层的厚度为0.1mm左右，相较于掩膜版的厚度（一般为13mm），防护层对光线的吸收可以忽略，不会对曝光过程产生影响。其中，防护层的材质可以为石英玻璃，使得曝光过程中防护层对光线的反射和散射很小，可以忽略，不会影响曝光时的光线分布。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 | ||
【主权项】：
一种掩膜版，其特征在于，包括透明的衬底和形成在所述衬底表面上的图案化的遮光层，还包括覆盖在所述遮光层上的透明的防护层。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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