[实用新型]一种具有终端耐压结构的沟槽MOSFET有效

专利信息
申请号: 201220611687.9 申请日: 2012-11-19
公开(公告)号: CN203288598U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 朱超群;钟树理;陈宇 申请(专利权)人: 宁波比亚迪半导体有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315800 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提出了一种具有终端耐压结构的沟槽MOSFET,该沟槽MOSFET在元胞区内和终端区内分别形成有沟槽,终端区的沟槽为至少两个环绕元胞区的封闭的环形沟槽,靠近元胞区的至少一个环形沟槽为隔离环,该隔离环与零电位连接,靠近划片道的至少一个环形沟槽为截止环,该截止环与划片道连接。本实用新型的具有终端耐压结构的沟槽MOSFET的隔离环与零电位连接,能够有效抑制漏电;截止环与划片道连接,使载流子不会沿着截止环积累,提高了该终端耐压结构的隔离效果和耐压效果。
搜索关键词: 一种 具有 终端 耐压 结构 沟槽 mosfet
【主权项】:
一种具有终端耐压结构的沟槽MOSFET,其特征在于,包括:衬底及其上形成的外延层,所述外延层的导电类型与所述衬底的导电类型相同,在所述外延层内从上至下依次形成有源区和阱区,所述阱区的导电类型与所述衬底的导电类型相反,所述源区的导电类型与所述衬底的导电类型相同,所述源区的上表面与所述外延层的上表面处于同一平面;所述外延层划分为元胞区和终端区,所述元胞区位于中心区域,在所述终端区内形成有栅极引线区,所述栅极引线区包围元胞区,所述终端区包围栅极引线区和元胞区,在所述元胞区内和终端区内分别形成有沟槽,所述沟槽的深度大于所述源区和阱区的厚度之和,所述终端区的沟槽为至少两个环绕所述元胞区的封闭的环形沟槽,所述环形沟槽彼此不相连接;在所述沟槽内形成有第一介质层和栅极;在所述外延层上形成有第二介质层,所述第二介质层内形成有接触孔,所述接触孔包括栅极接触孔、源极接触孔和截止环接触孔;在所述第二介质层表面形成有栅极金属层、源极金属层和截止环金属层,所述栅极金属层通过栅极接触孔与所述栅极相连,所述源极金属层通过源极接触孔与所述源区相连,所述截止环通过截止环接触孔与所述截止环金属层相连;以及在所述衬底之下形成有漏极金属层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波比亚迪半导体有限公司,未经宁波比亚迪半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201220611687.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top